多弧離子鍍膜機行業雖然為制造業，但是對于技術的開發和創新需求較高，人力資本對多弧離子鍍膜機企業的經營發展影響深遠。隨著城市生活成本快速上升，社會平均工資逐年遞增，具有豐富業務經驗和素質的中人才工資薪酬呈上升趨勢，導致未來行業內企業將面臨人力成本上升利潤水平下降的風險。

　　多弧離子鍍膜機的電弧蒸發源原理是通過一個冷陰自持電弧放電，是一種場致發射。蒸發源的典型的基本配置為：受鍍基材與陰相接，陽接真空室，待真空室抽到到高些的真空狀態、觸發電啟動器接觸打開，形成一個穩定的電弧放電于陽和陰之間。而在陰的表面覆蓋有很多快速移動的陰斑，斑直徑在1μm到兩微米之間，還有直徑約10μm的光斑，有每秒移動幾十米的速度，電流之間密度為10 A/cm-10 A/cm，間電壓也降低到20V-40V之間。

　　多弧離子鍍膜機

　　用于金屬、陶瓷、玻璃等材質表面鍍制各種硬質金屬膜、金屬化合物膜及裝飾膜。具有抽速快、真空穩定，裝載量大、鍍膜均勻性好的特點。廣泛應用于手表、眼鏡、資訊產品 模具、五金、玻璃、陶瓷、建材等行業表面處理，是鍍制TP仿金、TPC、TP淺、TP咖啡色、TP玫瑰、香檳金、千邑色等膜層的理想設備。本機不污染環境，所鍍膜層無毒，對人體無害，是解決水電鍍廠環境污染問題，替代傳統水電鍍金，鍍烙的理想設備。

　　多弧離子鍍膜機與磁控濺射鍍膜機的區別

　　多弧離子鍍膜機通過向弧靶通大電流，通過引弧針引弧，在靶表面產生電弧，電弧溫度很高，融化靶材，通過在產品上加偏壓，被融化的靶材沉積在產品上。

　　磁控濺射鍍膜機，通過氬離子轟擊靶材，把靶材濺射到產品上形成鍍膜，磁控是通過磁場約束氬離子多次轟擊靶材提率。

　　現在國產機器都是二合一的，兩種功能都具備。

　　多弧離子鍍膜機技術指標

　　真空室尺寸:單室,?1000*1000mm2，有效鍍膜空間：?600*600mm2 抽真空時間：＜15min（室溫空真空室從大氣壓抽到*10-3Pa） 限壓力:×10-4Pa 工作真空度:10~×10-1Pa 偏壓電源：輸出功率30kw，輸出電壓0~1000V，輸出占空比調節范圍：0~90% 總功率：70KVA，380~400v/220~240v,50~60HZ。

　　我們公司一直秉承“以市場為導向，以客戶為中心，建立良好的客戶服務理念，為客戶創造價值"的經營方針，歷經市場的長期洗禮，逐步積累了豐富的資源和良好的口碑，被客戶廣泛的視為值得信賴的戰略合作伙伴。