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Model 6020S OAI 紫外光刻機(jī) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-08 瀏覽次數(shù) 4 OAI的面板級(jí)掩模光刻機(jī)Model6020S用于FOPLP型號(hào)6020S-半自動(dòng)化或自動(dòng)化,實(shí)現(xiàn)500mmx500mm晶圓尺寸的FO-PLP加工.OAI’sPanelLevelMaskAlignerforFOPLPModel6020S-SemiorAutomatedEnablingFO-PLPProcessingat500mmx500mmWaferSizesOAI掩模對(duì)準(zhǔn)器對(duì)比
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海德堡μMLA桌面無掩模光刻機(jī) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-08 瀏覽次數(shù) 8 海德堡μMLA桌面無掩模光刻機(jī) 桌面型光刻機(jī)μMLA 技術(shù)參數(shù) 直寫模式 I*直寫模式 II*寫入性能（光柵掃描和矢量曝光模式） 小結(jié)構(gòu)尺寸 [μm]0對(duì)比
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OAI Model 800E 型紫外光刻機(jī) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-08 瀏覽次數(shù) 10 OAIModel800E型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)比
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德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機(jī) MLA150 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-08 瀏覽次數(shù) 4 德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機(jī) MLA150 德國高精密激光直寫繪圖機(jī)非接觸式曝光可支持?jǐn)?shù)位光刻與灰度光刻 MLA150專為便于操作而設(shè)計(jì)，涵蓋過去30年中開發(fā)的激光直寫設(shè)備的所有技術(shù)知識(shí)對(duì)比
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OAI Model 212型 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-08 瀏覽次數(shù) 8 OAIModel212型桌面掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)比
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德國海德堡 激光直寫光刻機(jī)DWL 66+ 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-08 瀏覽次數(shù) 9 德國海德堡激光直寫光刻機(jī)DWL66+科研用激光直寫系統(tǒng)具有多種直寫模塊，實(shí)現(xiàn)不同精度直寫需求能于結(jié)構(gòu)上進(jìn)行灰度曝光 DWL66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟(jì)效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器，適用于小批量掩模板制作和直寫需求對(duì)比
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德國Nanoscrib 雙光子微納3D打印機(jī)Quantum X 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) Quantum X 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-07 瀏覽次數(shù) 10 德國Nanoscrib雙光子微納3D打印機(jī)QuantumX重新定義精密加工對(duì)比
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德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機(jī)MLA100 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) MLA100? 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-07 瀏覽次數(shù) 5 德國海德堡Heidelberg激光直寫光刻機(jī)MLA100適合用科研領(lǐng)域的中小型實(shí)驗(yàn)室與大學(xué)研究所，支持套刻直寫功能MLA100聚焦于合理價(jià)格下依然維持高性能，是許多研發(fā)應(yīng)用的理想光刻解決方案對(duì)比
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URE-2000 系列紫外單面光刻機(jī) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) URE-2000 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-07 瀏覽次數(shù) 12 URE-2000系列紫外單面光刻機(jī)此系列包含六種型號(hào)：URE-2000A,URE-2000B,URE-2000/35,URE-2000/35A,URE-2000/25,URE-2000/17URE-2000/600紫外光刻機(jī)1、設(shè)備主要技術(shù)指標(biāo)：(1)光束口徑：650mm×650mm(2)有效曝光面積：600mm×600mm(3)分辨力：≤3μm(4)對(duì)準(zhǔn)精度：±1對(duì)比
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德國Heidelberg激光直寫光刻機(jī)μPG 101，UMLA 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) μPG 101，UMLA 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-07 瀏覽次數(shù) 12 德國海德堡Heidelberg激光直寫光刻機(jī)μPG101，升級(jí)新型號(hào)：UMLA適合用于科研領(lǐng)域臺(tái)式激光直寫機(jī)操作簡單，可支持灰度光刻μPG101是一款經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且易于操作的圖形發(fā)生器，適用于直寫和少批量的掩模板制作對(duì)比
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URE-2000S 系列雙面光刻機(jī) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) URE-2000S 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-07 瀏覽次數(shù) 5 一、URE-2000S/A8型雙面光刻機(jī)1.主要技術(shù)參數(shù)曝光面積：8英寸曝光波長：365nm：15mW/cm405nm：15-30mW/cm2分辨力：1mm對(duì)準(zhǔn)精度：±2mm（雙面,片厚0.8mm）±0.8mm（單面）掩模尺寸：4英寸、5英寸對(duì)比
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德國Nano analytik 電子束光刻機(jī) 針尖光刻機(jī) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) ParcanNano掃描探針光刻刻系統(tǒng)/單針尖光系統(tǒng) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-07 瀏覽次數(shù) 4 ParcanNano電子束光刻機(jī) 針尖光刻機(jī)SPL(德國Nanoanalytik)簡介：公司以的針尖技術(shù)為核心競爭力，技術(shù)源自于德國伊爾默瑙工業(yè)大學(xué)，致力于主動(dòng)式針尖技術(shù)在微納米結(jié)構(gòu)制備和表征方面的研發(fā)，及其相關(guān)設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化對(duì)比
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Heidelberg μMLA桌面無掩模光刻機(jī) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-07 瀏覽次數(shù) 5 μMLA桌面無掩模光刻機(jī) 桌面型光刻機(jī)μMLA 技術(shù)參數(shù) 直寫模式 I*直寫模式 II*寫入性能（光柵掃描和矢量曝光模式） 小結(jié)構(gòu)尺寸 [μm]0對(duì)比
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德國MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)? OCTOPLUS 500 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-07 瀏覽次數(shù) 7 德國MBE-Komponenten分子束外延系統(tǒng)OCTOPLUS500 OCTOPLUS500系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長高質(zhì)量的III/V族或者II-VI族異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料而研發(fā)的對(duì)比
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NIE-4000 離子束刻蝕機(jī)，NIR-4000 IBE/RIE 雙刻蝕系統(tǒng) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-07 瀏覽次數(shù) 5 NIE-4000離子束刻蝕系統(tǒng) NIR-4000IBE/RIE雙刻蝕系統(tǒng)通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕或銑削對(duì)比
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美Sonix AutoWafer Pro 晶圓檢測(cè)設(shè)備 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-01-07 瀏覽次數(shù) 7 美Sonix AutoWafer Pro 晶圓檢測(cè)設(shè)備 AutoWafer Pro是專為全自動(dòng)晶圓檢測(cè)設(shè)計(jì)的機(jī)型，主要應(yīng)用在Bondwafer、MEMS內(nèi)部空間、離層檢測(cè)，TSV量測(cè)方面對(duì)比
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1級(jí)高磷研磨平板 高磷合金研磨盤 鑄鐵研磨平板 定做研磨盤生產(chǎn)廠家 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) PB-010 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2022-12-30 瀏覽次數(shù) 8 溫馨提示：產(chǎn)品價(jià)格僅供參考，詳情歡迎！ 平板分類：鑄鐵平板，劃線平板，檢驗(yàn)平板，基礎(chǔ)平板，裝配平板，圓形平板，方箱平板，焊接平板，鉚焊平板等對(duì)比
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二手日本光弛OTFC-1300MM真空鍍膜機(jī)適用于光學(xué)鏡片、AF、AS膜 參考價(jià) ￥25.8
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品牌 型號(hào) OTFC-1300 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2022-10-09 瀏覽次數(shù) 28
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二手日本光弛OTFC-1550真空電鍍膜機(jī)適用:介質(zhì)及金屬膜光學(xué)鍍膜 參考價(jià) ￥23.8
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品牌 型號(hào) OTFC-1550 類型 光學(xué)加工機(jī)械 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2022-10-09 瀏覽次數(shù) 7
