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E-Beam電子束蒸發鍍膜系統 參考價 ￥面議
標簽：E-Beam電子束蒸發鍍膜系統
品牌 型號 KVT 類型 半導體設備 廠商性質 經銷商 更新時間 2024-12-11 瀏覽次數 12 E-Beam電子束蒸發鍍膜系統304不銹鋼圓柱形腔體，標準直徑有18英寸和24英寸，分子泵或冷凝泵；手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片，高真空背景傳遞；PLC自動控制界面，菜單控制，數據獲取和遠程控制，QCM膜厚監控，光學膜厚監控。對比
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EUROPE 臺式X射線衍射儀 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2025-03-23 瀏覽次數 6 產品名稱： EUROPE 臺式X射線衍射儀 產品型號： 更新時間： 2023-05-17 品牌： GNR 生產地址： EUROPE 臺式X射線衍射儀，配備了θ/θ 粉末衍射系統，可對多晶材料進行定性對比
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激光直寫無掩膜光刻機 參考價 ￥面議
標簽：激光直寫無掩膜光刻機
品牌 型號 類型 半導體設備 廠商性質 經銷商 更新時間 2024-12-11 瀏覽次數 14 激光直寫無掩膜光刻機紫外光直寫曝光 ，無需掩模，大幅節約了掩模加工費用，靈活性高，可直接通過電腦設計光刻圖形，并可根據設計要求隨意調整，可升級開放性系統設計，按照客戶要求自由配置，使用維護簡單, 設備耗材價格低，應用范圍廣，目前廣泛應用于半導體、生物芯片、微機電系統、傳感器、微化學、光學等領域。對比
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集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2024-08-07 瀏覽次數 44 簡要描述：集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發的要求。樣品可以通過預真空室和/或真空片盒站加載。對比
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桌上型-半自動可程序旋轉涂膠機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2024-06-06 瀏覽次數 16 設備概要：適用尺寸：2"-12"Wafer基材對比
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LDI-無掩模激光成象光刻機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2024-06-06 瀏覽次數 9 廣泛應用多種微納光刻加工領域的研究與生產，光刻最小線寬600nm，套刻對準精度500nm器件直寫光刻功能對比
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PZC122D PZC272D PZC502B PZC103B PZC153B 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2024-02-07 瀏覽次數 14 The PZ series is another EMI original. Patented design requires less insertion force and no residual compression failures. .156” flange, hermetic on the barrel end.對比
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PZC250D PZC101D PZC501D PZC102D PZC152D 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2024-02-07 瀏覽次數 11 The PZ series is another EMI original. Patented design requires less insertion force and no residual compression failures. .156” flange, hermetic on the barrel end.對比
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PZC273A PZC333A PZC050D PZC100D PZC000D 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2024-02-07 瀏覽次數 12 The PZ series is another EMI original. Patented design requires less insertion force and no residual compression failures. .156” flange, hermetic on the barrel end.對比
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YES-EcoCoat具有原位等離子體的硅烷單層氣相沉積系統 參考價 ￥面議
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品牌 型號 EcoCoat 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-11-01 瀏覽次數 22 產品概述憑借其可配置的大容量腔室，手動加載的EcoCoat硅烷氣相沉積系統旨在滿足您的工藝開發和批量生產要求對比
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YES TA Series HMDS真空固化/蒸汽灌注系統 參考價 ￥面議
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品牌 型號 YES TA Series 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-11-01 瀏覽次數 18 產品概述YESTA系列真空固化/蒸氣底漆系統使用六甲基二硅氮烷（HMDS）提供快速，均勻，經濟的底漆，以改善光刻膠的附著力對比
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SPIN150i旋涂儀小巧靈活，可應用于甩干，沖洗，清潔，涂膠等。 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SPIN150i 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-11-01 瀏覽次數 16 產品概述1、結構：*NPP-H（具有α晶的天然聚丙烯）的耐腐蝕結構）為整個系統提供更好的剛性和韌性*高品質無縫制造表面對比
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小型臺式X射線衍射儀 參考價 ￥面議
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品牌 型號 小型臺式 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-09-09 瀏覽次數 14 美國伊諾斯小型臺式X射線衍射儀XRD-BTX 一.小型臺式X射線衍射儀XRD-BTX簡介 XRD-BTX是一款小型臺式X射線衍射（XRD）和X射線熒光（XRF）分析儀對比
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太倉回收安川電機編碼器、太倉回收庫伯勒編碼器 參考價 ￥面議
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品牌 型號 dfg8560 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-06-08 瀏覽次數 15 回收高價免費上門回收電子廠廢料回收，儀器儀表電子元件回收我公司高價專回收單位、銀行、網吧、學校KTV歌廳、回收通訊設備，電子元件，電腦、筆記本、打印機、交換機，工控機，服務器，儀器儀表，電子報廢產品及辦公設備等高價回收對比
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Agilent7890B氣相色譜儀 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-04-28 瀏覽次數 14 Agilent7890B氣相色譜儀,依托安捷倫40多年的色譜經，具有休眠/喚醒雙模式，可降低載氣和能源消耗。Agilent7890B 的雙向直接通訊保護了您的投資，將放空時間縮短高達40%，增強型早期維護反饋功能減少了不必要的停機。集成在安捷倫數據系統中的GC 計算器優化了方法，并且將計算值自動轉移到方法編輯器。高級電子氣路控制和數字電路為保留時間鎖定精度和快速柱箱降溫設定對比
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德國Sentech 集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-02-25 瀏覽次數 20 德國Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統研發三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發的要求對比
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德國Diener PECVD等離子體化學氣相沉積設備 TETRA240 參考價 ￥面議
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品牌 型號 TETRA240 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-02-25 瀏覽次數 15 德國DienerPECVD等離子體化學氣相沉積設備該PECVD系統可以沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等對比
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TS3500 Probe System 全自動晶圓探針臺系統 參考價 ￥面議
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品牌 型號 TS3500 Probe System 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-02-25 瀏覽次數 23 適用于多種晶圓量測應用?模塊量測-DC-IV對比
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TS3000 Probe System 半自動300mm探針臺測試系統 參考價 ￥面議
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品牌 型號 TS3000 Probe System 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-02-25 瀏覽次數 20 TS3000ProbeSystem半自動300mm探針臺測試系統?模塊量測-DC-IV/DC-CV/Pulsed-IV?高溫度范圍-60°C至300°C?大的靈活性?具有特定設計的電纜接口的與功能測試儀的小電纜距離對比
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TS2000-DP Probe System 經濟高效的8寸半自動高功率測試探針臺 參考價 ￥面議
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品牌 型號 TS2000-DP Probe System 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-02-25 瀏覽次數 18
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霍爾效應測試系統HEMS 參考價 ￥面議
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品牌 型號 HEMS 類型 半導體設備 廠商性質 其他 更新時間 2023-02-25 瀏覽次數 17 霍爾效應測試系統HEMS測量包括：?遷移率測試?DCHEMS:10^6cm2/Vsto10cm2/Vs?ACHEMS:10cm2/Vsto0對比
